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电子清洗超纯水设备

发布时间:2021-07-22 06:30:08 人气:1231次 来源:本站

工作原理
电子清洗超纯水设备中利用EDI模块(膜堆)作为超纯水制备系统的工作核心,一个简单的EDI膜堆主要由两个电性相反的电极和多个模块单元对组成,一个膜单元对由一个填满阳离子和阴离子交换树脂的淡水室(D-室)、一个阳膜、一个阴膜、一个浓水室(C-室)组成。
设备优点
1、离子交换树脂的用量少,约相当于传统离子交换法树脂用量的5%。
2、离子交换树脂不需酸、碱化学再生,节约大量酸、碱和清洗用水,大大降低劳动强度。
3、无废酸、废碱液排放,是清洁的生产技术,属环保产品。
4、过程易实现自动控制,产水水质稳定,与RO等水处理技术相结合,能形成完善的纯水、超纯水生产线。
5、产水水质高,可达到国家电子级水I级标准,电阻率为15~18MΩ·cm,细菌内毒素含量小于0.1mg/L可完全满足《中国药典》、《美国药典》对药用水的要求。
有优异的除弱解离物质(如二氧化碳、硅、硼、氨等)的能力,更适用于超纯水的需要
基本参数
 1、给水:RO纯水,一般水的电导率为4-30us/cm。
 2、PH:5.0-8.0(在此PH条件下,水硬度不能太高)
 3、温度:5-35℃
 4、进水压力:较大为4kg/cm2(60psi),较小为1.5kg/cm2(25psi)。
EDI的进水要求 
反渗透RO产水,电导率1-20μs/cm,较大允许电导率≤30μs/cm(NaCl)。
pH值: 7.5—9
温度: 15℃--35℃
进水压力(DIN):0.15—0.4MPa
浓水进水压力(C ) 0 10 0 3MP IN): 0.10—0.3MPa
产水压力(DOUT):0.05—0.25MPa
浓水出水压力(COUT): 0.02—0.2MPa
进水硬度:<1.0ppm(以CaCO 计)(推荐0 5ppm以下)
进水有机物:TOC<0.5ppm
进水硅:SiO2<0.5ppm
进水总CO2:<3ppm
进水颗粒度:<1μm
工艺流程
自来水→电动阀→多介质过滤器→活性炭过滤器→软化水器→中间水箱→低压泵→PH值调节系统→高效混合器→精密过滤器→高效反渗透→中间水箱→EDI水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点
适用范围
电子行业生产如单晶硅、半导体、集成电路块、IC芯片封装、显像管、玻壳、液晶显示器、印刷电路版、光学、光电、热电厂、冶金、化工、轻工、汽车制造、制药、医疗卫生等制造工业用纯水制造。
医药行业的大输液、医药制剂、检验分析、血液透析、制药、制剂工艺用水制造。
涂装行业如电镀、电池生产、电泳漆生产线;汽车、电器、建材产品表面清洗、涂装;玻璃、塑料表面镀膜等。化工行业用水制造如化学制药、纺织印染、精细化工、化妆品、墨盒、日化产品等。
实验超纯水如工厂、大学及公司的生产实验室、化学实验室、物理实验室、中试车间、医院生化室等

(我们可以做的规格:0.25T/H、5T/H、1T/H......200T/H不等,欢迎咨询,咨询电话:18911133383)
 
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